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    石墨烯納米硅復合研磨分散機

    石墨烯納米硅復合研磨分散機

    產(chǎn)品型號: GMD2000

    所屬分類:研磨分散機

    更新時間:2025-06-25

    簡要描述:石墨烯納米硅復合研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼。

    詳細說明:

    一、關(guān)鍵詞搜索

    石墨烯納米硅復合研磨分散機,石墨烯復合材料研磨分散機,納米硅研磨分散機,石墨烯復合漿料研磨分散機,德國進口高剪切研磨分散機,高轉(zhuǎn)速研磨分散機,膠體磨升級款研磨機

    二、研磨分散機的設計

    SGN研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

    三、石墨烯的簡介

    石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來的*光學特性,用于紅外光探測有著突出的優(yōu)勢。但也存在著明顯的劣勢:本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機制,導致石墨烯探測器的光響應率較低;石墨烯自身的光生載流子壽命短,僅皮秒左右,導致光生載流子難以有效收集,也嚴重影響探測器的光響應率,石墨烯探測器的低響應率無法滿足實際應用的需要。目前,通過對石墨烯進行量子點修飾、構(gòu)筑 PN 結(jié)、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合、石墨烯與微腔或硅波導集成等多種方法,可以不同程度地提高石墨烯探測器的光響應率,以達到或接近實際應用的需要。

    由于鋰離子電池具有高容量、無記憶效應、快速可逆充放電、高庫倫效率等優(yōu)點,其已在便攜式電子產(chǎn)品如shou機、筆記本電腦、數(shù)碼相機等中得到廣泛應用。然而再近二十年來,人們再大容量鋰離子二次電池的研究商進展緩慢。為滿足對高容量鋰離子二次電池的需求,開發(fā)高容量、低成本的新型電極材料具有很高的研究價值。

    四、硅石的簡介

    硅石一種理想的鋰離子電池負極材料,其具有很高的理論儲鋰容量以及較低的儲理點位。而在充放電過程中,硅極材料的體積效應使得該材料容易粉化,進入從集流體上剝落,從而導致容量迅速衰減。而且,硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應用。

    石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準二維材料。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比、優(yōu)異的導電性和化學穩(wěn)定性。

    五、研磨分散機的工藝

    上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

     

    GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

     

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

    六、研磨分散機的結(jié)構(gòu)

    GMD2000 石墨烯納米硅復合研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

    七、研磨分散機的特點

    1、線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    3、定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    4、在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    5、高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    設備其它參數(shù):

    設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

     

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